Barniz fotorresistente
Un barniz fotorresistente és un material sensible a la llum que s'utilisa en diversos processos, com la fotolitografía i el fotogravat, per a formar un revestiment estampat sobre una superfície. Este procés és crucial en l'indústria electrònica. [1]
El procés comença recobrint un substrat en un material orgànic sensible a la llum. A continuació, s'aplica a la superfície una caraça en un patró per a bloquejar la llum, de modo que només queden expostes a la llum les regions del material que no estiguen emmaixquerades. A continuació, s'aplica a la superfície un dissolvent, denominat revelador. En el cas d'una fotorresistencia positiva, la llum degrada el material fotosensible i el revelador dissol les zones expostes a la llum, deixant una capa en el lloc a on es va colocar la caraça. En el cas d'una fotorresistencia negativa, el material fotosensible és reforçat (polimerizado o reticulado) per la llum, i el revelador dissoldrà només les regions que no varen estar expostes a la llum, deixant un revestiment en les zones a on no es va colocar la caraça.
Es pot aplicar un revestiment BARC (Bottom Anti-Reflectant Coating) abans d'aplicar el barniz fotorresistente, per a evitar que es produïxquen reflexos baix la fotorresistencia i millorar el rendiment de la fotorresistencia en nodos semiconductors més menuts. [2] [3] [4]
Els barnices fotorresistentes convencionals solen constar de 3 components: resina (un aglutinant que proporciona propietats físiques com a adheriment, resistència química, etc.), sensibilizador (que té un compost fotoactivo) i dissolvent (que manté líquida la resistència).
Classificació
[editar | editar còdic]Segons l'estructura química dels fotoprotectores, es poden classificar en tres tipos: fotoprotectores fotopoliméricos, fotodescomponentes i fotorreticulados.
- Els fotorresistentes fotopoliméricos són un tipo de fotorresistencia, normalment de monòmer d'alilo, que pot generar radicals lliures quan s'expon a la llum, iniciant llavors la fotopolimerización del monòmer per a produir un polímero.
- Els fotorresistentes fotorreticulados són un tipo de fotorresistencia que pot entrecreuar-se cadena a cadena quan s'expon a la llum, per a generar una ret insoluble.
- Els fotorresistentes fotodescomponentes són un tipo de fotorresistentes que generen productes hidrófilos baix la llum. Un eixemple típic és l'azida quinona, per eixemple diazonaftaquinona (DQ).
Aplicacions
[editar | editar còdic]Plaques de circuit imprés
[editar | editar còdic]La fabricació de plaques de circuit imprés és un dels usos més importants dels barnices fotorresistentes.
La fotolitografía permet reproduir el complex cablejat d'un sistema electrònic de forma ràpida, econòmica i precisa, com si s'eixecutara en una imprenta. El procés general consistix en aplicar fotoprotector, expondre l'image a rajos ultravioleta i després gravar per a eliminar el substrat revestit de coure. [5]
Microelectrónica
[editar | editar còdic]Esta aplicació, aplicada principalment a obleas de silici i circuits integrats de silici, és la més desenrollada de les tecnologies i la més especialisada en el camp. [6]
Referències
[editar | editar còdic]- ↑ Eric, Anslyn; Dougherty, {{{nom2}}}. Modern physical organic chemistry, University Science Books.
- ↑ «Top Anti-reflective Coatings vs Bottom Anti-reflective Coatings».
- ↑ MicroChemicals. «Basics of Microstructuring: Anti-Reflective Coatings». Microchemicals GmbH. Consultat el 2020-01-31.
- ↑ «AR™ 10L Bottom Anti-Reflectant Coating (BARC) &#; DuPont». dupont.com.
- ↑ Montrose, Mark I (1999). The Electronic Packaging Handbook, CRC Press.
- ↑ (2004) Silicon photonics, Springer Science & Business Media.
- Este artícul conté una traducció derivada de «Barniz fotorresistente» de Wikipedia en castellà publicada baix la Llicència de documentació lliure de GNU i la Llicència Creative Commons Reconeiximent-CompartirIgual 4.0 Internacional.